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技術(shù)文章

TECHNICAL ARTICLES

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  • 20249-20
    徠卡偏光顯微鏡:科學(xué)研究中的重要工具

    在現(xiàn)代科學(xué)研究中,顯微鏡的作用不可忽視,尤其是偏光顯微鏡在材料科學(xué)、地質(zhì)學(xué)和生物學(xué)等領(lǐng)域中具有舉足輕重的地位。徠卡(Leica)作為顯微鏡領(lǐng)域的品牌,其偏光顯微鏡憑借杰出的光學(xué)性能和精密的設(shè)計,成為科研工作者的理想選擇。一、產(chǎn)品的基本原理徠卡偏光顯微鏡通過利用光的偏振特性來觀察樣品。這種顯微鏡的工作原理基于光波的特性,當(dāng)光線通過偏振片時,只有特定方向的光波能夠通過,這一過程幫助減少樣品表面的反射光和散射光,從而提高圖像的對比度和清晰度。對于某些晶體和材料,它能夠揭示出其內(nèi)部結(jié)...

  • 20249-18
    共聚焦白光干涉儀在半導(dǎo)體行業(yè)中的應(yīng)用與挑戰(zhàn)

    共聚焦白光干涉儀在半導(dǎo)體行業(yè)中具有廣泛的應(yīng)用,同時也面臨著一些挑戰(zhàn)。以下是對其應(yīng)用與挑戰(zhàn)的詳細(xì)分析:應(yīng)用高精度表面形貌測量:共聚焦白光干涉儀以其高精度(可達(dá)納米級)和非接觸式的測量方式,成為半導(dǎo)體制造過程中表面形貌檢測的重要工具。它能夠準(zhǔn)確測量半導(dǎo)體晶片、芯片封裝等關(guān)鍵部件的表面粗糙度、平整度等參數(shù),確保產(chǎn)品質(zhì)量?;瘜W(xué)機械平面化(CMP)過程監(jiān)測:在CMP過程中,共聚焦白光干涉儀可用于監(jiān)測拋光墊的表面光澤和槽阻塞情況,從而優(yōu)化拋光工藝,提高晶片的平整度。這對于實現(xiàn)高質(zhì)量、高性...

  • 20248-25
    徠卡金相顯微鏡與普通顯微鏡的區(qū)別及應(yīng)用

    顯微鏡是科學(xué)研究和工業(yè)檢測中的重要工具,其應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,包括生物學(xué)、醫(yī)學(xué)、材料科學(xué)等。隨著科技的發(fā)展,顯微鏡技術(shù)不斷演進(jìn),徠卡金相顯微鏡與普通顯微鏡就是其中的兩種常見類型。雖然它們都用于觀察微小物體,但在結(jié)構(gòu)、功能和應(yīng)用領(lǐng)域上存在顯著差異。一、顯微鏡的基本原理普通顯微鏡,又稱光學(xué)顯微鏡,通過光學(xué)系統(tǒng)放大樣品,使得肉眼無法分辨的細(xì)節(jié)變得可見。其基本結(jié)構(gòu)包括光源、聚光鏡、物鏡和目鏡。普通顯微鏡通常用于觀察生物細(xì)胞、組織切片等樣品,適合各種實驗室應(yīng)用。徠卡金相顯微鏡則是一種專門用于...

  • 20248-19
    徠卡顯微鏡操作流程詳解

    徠卡顯微鏡以其良好的圖像質(zhì)量和精密的光學(xué)系統(tǒng),在科學(xué)研究、醫(yī)學(xué)診斷和工業(yè)檢測中發(fā)揮著重要作用。正確的操作流程不僅能確保產(chǎn)品的性能,還能提高實驗的準(zhǔn)確性和效率。以下是徠卡顯微鏡操作的詳細(xì)步驟,幫助用戶充分發(fā)揮這一高級設(shè)備的潛力。一、準(zhǔn)備1.環(huán)境準(zhǔn)備:確保顯微鏡放置在穩(wěn)定、干燥且溫度適宜的環(huán)境中。避免陽光直射和溫度劇烈波動,以保證設(shè)備的穩(wěn)定性和圖像質(zhì)量。2.電源連接:檢查電源線和插頭,確保連接穩(wěn)固。接通電源,啟動顯微鏡。部分型號可能需要預(yù)熱幾分鐘,以確保光源穩(wěn)定。3.光學(xué)系統(tǒng)檢查...

  • 20248-14
    非接觸式測量的未來:三維光學(xué)輪廓儀的廣泛應(yīng)用

    三維光學(xué)輪廓儀作為一種高精度、非接觸式的測量工具,正逐步成為多個領(lǐng)域中重要的測量設(shè)備。其非接觸式的測量方式不僅避免了傳統(tǒng)接觸式測量可能帶來的表面損傷,還顯著提高了測量效率和精度。以下將詳細(xì)闡述三維光學(xué)輪廓儀的廣泛應(yīng)用及其在未來非接觸式測量領(lǐng)域的重要地位。一、高精度表面形貌測量三維光學(xué)輪廓儀能夠以納米級的分辨率測量物體表面的三維形貌,包括粗糙度、波紋度、表面結(jié)構(gòu)、缺陷分析等。這種高精度的測量能力使得它在微電子、半導(dǎo)體、光學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。例如,在半導(dǎo)體制造中,三...

  • 20247-24
    澤攸探針臺:精密納米測量的科技工具

    在納米科學(xué)研究和工業(yè)生產(chǎn)中,精密測量技術(shù)扮演著至關(guān)重要的角色。安徽澤攸科技有限公司,作為具有全部自主知識產(chǎn)權(quán)的科學(xué)儀器公司,其研發(fā)的探針臺產(chǎn)品,尤其是澤攸探針臺,成為了納米測量領(lǐng)域的先進(jìn)者。本文將深入探討它的主要功能、技術(shù)特點及其在多個領(lǐng)域的應(yīng)用。澤攸探針臺,作為澤攸科技的重要產(chǎn)品線之一,以其高精度、高分辨率和多功能性,在納米材料表征、器件測試及生物細(xì)胞操作等領(lǐng)域展現(xiàn)出強大的應(yīng)用潛力。該探針臺采用了先進(jìn)的掃描探針技術(shù),能夠在微觀尺度下對樣品表面進(jìn)行精確測量和操縱,為科研人員提...

  • 20247-19
    澤攸臺式掃描電鏡使用指南

    在材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)及納米技術(shù)等領(lǐng)域,掃描電鏡(SEM)作為重要的分析工具,其應(yīng)用日益廣泛。澤攸科技推出的臺式掃描電鏡,憑借其緊湊的設(shè)計、高清晰度的成像及便捷的操作流程,受到了科研人員的青睞。以下將詳細(xì)介紹澤攸臺式掃描電鏡的使用方法。一、準(zhǔn)備工作1.環(huán)境準(zhǔn)備:確保操作環(huán)境相對干燥、無塵、無震動,以保證掃描效果的穩(wěn)定和準(zhǔn)確。2.樣品準(zhǔn)備:樣品表面需進(jìn)行導(dǎo)電處理,如金屬噴霧或蒸鍍,以消除電荷積累對成像的影響。同時,樣品表面應(yīng)光滑平整,避免劃痕或污染。3.設(shè)備檢查:檢查掃描電鏡各部...

  • 20247-15
    共聚焦白光干涉儀的結(jié)構(gòu)、原理與操作指南

    一、結(jié)構(gòu)共聚焦白光干涉儀(雖然通常直接稱為白光干涉儀,但“共聚焦”可能指的是其聚焦和測量過程中的一個特性)主要由以下幾個關(guān)鍵系統(tǒng)構(gòu)成:照明光源系統(tǒng):通常采用高亮度LED光源,Sensofar采用4色LED光源(紅、綠、藍(lán)、白),這一系統(tǒng)負(fù)責(zé)提供穩(wěn)定、均勻的光源,用于后續(xù)的共聚焦、白光干涉、相位移干涉和多焦面疊加測量。光學(xué)成像系統(tǒng):該系統(tǒng)采用無限遠(yuǎn)光學(xué)成像方式,由顯微物鏡和成像目鏡(或現(xiàn)代設(shè)計中可能采用的CCD相機)組成。它負(fù)責(zé)接收從樣品和參考鏡反射回來的光線,并形成清晰的圖像...

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