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技術(shù)文章

TECHNICAL ARTICLES

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  • 20255-9
    金屬的結(jié)構(gòu)特性

    金屬的內(nèi)部結(jié)構(gòu)是由稱為“晶粒”的單個晶體區(qū)域組成的。這些晶粒的結(jié)構(gòu)、尺寸和方向取決于材料的成分(合金)和材料的制造方法(如鍛造、鑄造或增材制造)。這些晶粒是在熔融物質(zhì)凝固、與其他物質(zhì)和其他成分(如相和污染物)相互作用時形成的。通常,晶粒結(jié)構(gòu)要調(diào)整為適合技術(shù)應用。晶粒的尺寸、方向和其他結(jié)構(gòu)特性直接關(guān)系到這些材料的機械和技術(shù)性能。結(jié)構(gòu)特性還取決于后續(xù)的外部影響。這些影響包括:化學影響(如腐蝕)化學和/或物理影響(如熱處理工藝)機械影響(如成形過程后的鍛造、軋制、彎曲等)微觀結(jié)構(gòu)圖...

  • 20255-9
    3D光學輪廓儀數(shù)據(jù)的精準解碼之道

    在納米級精密制造蓬勃發(fā)展的時代,3D光學輪廓儀已成為精密檢測領(lǐng)域的核心技術(shù)裝備。這臺搭載白光干涉與多波長干涉雙引擎的精密儀器,在材料科學實驗室和半導體產(chǎn)線中,每秒可產(chǎn)生數(shù)萬組包含相位、光強、梯度等多維特征的測量數(shù)據(jù)。如何從這些海量數(shù)據(jù)中提取有價值的信息,成為制約檢測效率的瓶頸。數(shù)據(jù)預處理是構(gòu)建3D形貌圖的基石。原始干涉條紋數(shù)據(jù)需經(jīng)過去噪聲處理,通過小波變換分解信號后,可有效分離高頻噪聲與低頻形貌特征。波前校正是消除光學系統(tǒng)自身像差的關(guān)鍵步驟,基于Zernike多項式擬合算法可...

  • 20254-29
    非接觸式粗糙度測量儀操作指南,從校準到數(shù)據(jù)分析全流程解析

    Sensofar非接觸式粗糙度測量儀(如Sneox系列)采用光譜共焦技術(shù),通過垂直入射光束與被測表面反射信號的相位差實現(xiàn)亞納米級精度測量,避免了傳統(tǒng)觸針式設(shè)備對表面的劃傷風險。其操作流程涵蓋環(huán)境準備、參數(shù)配置、數(shù)據(jù)采集與結(jié)果驗證四大核心環(huán)節(jié),以下為標準化操作規(guī)范。一、環(huán)境與設(shè)備預檢操作前需確保環(huán)境滿足技術(shù)要求:溫度20±2℃、濕度40%-60%,避免強光直射與空氣擾動。啟動設(shè)備前需完成三重檢查:1.光學組件:檢查物鏡透鏡組是否存在指紋或灰塵污染,使用無塵布蘸取9...

  • 20254-22
    SensoPRO:提升效率,確保高質(zhì)量生產(chǎn)的*備軟件

    SensoPro是提高效率和確保高質(zhì)量生產(chǎn)的最佳軟件。我們將演示如何使用SensoPro改進制造過程。工業(yè)化是制造過程中的重要一步。SensoPro是通過自動分析表面形態(tài),將開發(fā)線和生產(chǎn)連接起來,將成本降到最*,提高收益性的軟件解決方案。SensoPro使下載多個記錄變得容易。例如,可能有一組形狀與組件表面不匹配和一組形狀與組件的表面匹配。然后,您可以計算和放置SensoPro參數(shù),并找到更好地分離這兩個數(shù)據(jù)集的參數(shù)。另外,分析軟件可以使用多個測量程序,可以對不同的參數(shù)使用相...

  • 20254-14
    國產(chǎn)AI背后的“微觀守護者”:澤攸科技ZEM系列臺式掃描電鏡

    深圳市富田區(qū)最近正式任命了70名“AI公務員”。這標志著政府部門進入了“硅基同事”與人合作的新時代。這項改革基于DeepSeek2.0模型,將240個政府場景分解為標準化模塊,并在專用混合架構(gòu)中實現(xiàn)“跨”式智能組合。正式文件格式更正準確率95%以上,各部門分工效率80%以上。然而這場“靜悄悄的革命”背后,是百億級晶體管密度的AI芯片在支撐——幾納米工藝的芯片上,會導致系統(tǒng)崩潰,傳統(tǒng)光學顯微鏡已經(jīng)成為視力受損地區(qū)致命的渦輪。當人工智能公務員以僅為人力成本五十分之一的成本不間斷地...

  • 20254-11
    白光干涉儀光譜干涉模式原理:多色光下的精密測量技術(shù)

    白光干涉儀作為光學測量領(lǐng)域的重要工具,其光譜干涉模式基于光的干涉原理與光譜分析技術(shù),實現(xiàn)了對物體表面形貌、薄膜厚度等參數(shù)的高精度測量。該模式利用白光作為光源,通過特殊的分光與干涉機制,將光學測量精度提升至納米級。一、光譜干涉模式的基本原理白光干涉儀的光譜干涉模式基于多色光干涉特性。白光作為復合光源,包含連續(xù)光譜成分。當其經(jīng)過擴束準直后,通過分光棱鏡被分成兩束相干光:一束光經(jīng)被測表面反射,另一束光經(jīng)參考鏡反射。兩束反射光最終匯聚并發(fā)生干涉,在CCD相機感光面形成明暗相間的干涉條...

  • 20254-8
    S wide 3D輪廓測量儀為您提升質(zhì)量控制流程效率

    Sensofar3D輪廓儀提高質(zhì)量控制過程效率的關(guān)鍵創(chuàng)新。這些創(chuàng)新帶來了更強大的測量能力、更全面的分析和改進的自動化。新功能新的技術(shù)進步:探索數(shù)碼變焦等新功能。性能*越,適用于大型設(shè)備:了解Swide3D掃描儀如何幫助您測量大型樣品和大型部件。該系統(tǒng)的關(guān)鍵方面是寬視角(FOV)、超快速數(shù)據(jù)采集、靈活的設(shè)置和集成的自動化工具。數(shù)據(jù)提取的可能性:了解S-Wide3D輪廓儀進行的各種測量,包括粗糙度、平面度、關(guān)鍵尺寸、GD&T和CAD比較。Swide3D輪廓測量儀在哪些方面至關(guān)重要...

  • 20254-7
    掃描電鏡(SEM):原理、應用與樣品制備全解析

    掃描電鏡(ScanningElectronMicroscope,SEM)作為現(xiàn)代科學研究的重要工具,憑借其高分辨率、大景深和強大的綜合分析能力,在材料科學、生物學、醫(yī)學等領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用。本文將深入解析SEM的工作原理、核心優(yōu)勢、應用場景及樣品制備要點,帶您全面了解這一微觀世界的“透視眼”。一、掃描電鏡(SEM)的工作原理與核心構(gòu)造1.電子束與物質(zhì)的相互作用掃描電鏡的核心原理基于高能電子束與樣品表面的相互作用。當電子槍發(fā)射的電子束經(jīng)加速和聚焦后,以納米級直徑掃描樣品表...

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